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材料分析技术是表征材料物理化学特性的现代先进分析技术总称,它几乎可以表征影响材料表现的所有物理化学特征,如结构、缺陷、化学成分等。因此,材料分析技术常用来验证半导体材料/器件的设计、工艺等阶段的结果,并帮助其反馈和调整,是半导体生产研究中最为重要且被广泛应用的检测分析手段。

九峰山实验室的材料分析技术包含六大类。它包括了表面形貌分析、X射线分析、电子束分析、二次离子质谱分析、光谱分析、材料参数量测(电学及力学等功能测试)等,并可兼容测量4/6/8英寸晶圆和小尺寸样品,相应测试设备均保持全球领先水平。
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