双束聚焦离子束系统
Dual Beam FIB Microscope
双光束显微镜技术（Dual Beam FIB Microscope）主要用于精准创建横截面样品，用于后续进行SEM、 STEM、TEM成像或进行电路修改。
聚焦离子束电镜可以简单理解为将“电子束成像”和“离子束加工”两套系统整合到一台设备中。其中，电子束成像系统用来细致地观察样品的表面，离子束加工系统的加入可以使它在观察样品的同时，精密可控地切割出样品的横截面，以综合获取样品内部的结构信息。
配备不同的附属设备，双光束电镜还可以实现其它的特定功能，如：
- 搭配气体注入系统可选择性地去除某类材料或进行特定材料的沉积；
- 搭配能谱仪或电子背散射衍射系统可实现对材料成分、结构、取向结构的表征和分析；
- 搭配纳米操纵仪可以实现在微纳米尺度下对研究对象的操控；
- 搭配不同的样品台可以实现多场耦合条件下的原位分析和测试试验。
- 用途
- TEM样品制备（定点）；
- 缺陷分析；
- Volage Contrast (VC)衬度成像；
- 电路修改。
