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晶圆的研抛原理是将整晶圆减薄到一定的厚度,再通过切割的方式将整晶圆分离成一颗颗芯片,研抛工艺主要包括晶圆背面减薄、抛光、贴膜及正面切割等工序,是整晶圆分离成单颗芯片最重要的环节,同时对后续的封装工艺有非常重要的影响。

九峰山实验室研抛工艺设备
  • SIC Stealth Laser Dicing
  • Polisher
  • CMP
  • Diamond Blade Saw
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