刻蚀工艺是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。
刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀；湿法刻蚀主要利用化学试剂与被刻蚀材料发生化学反应进行刻蚀。
干法刻蚀是用等离子体（离子束刻蚀、反应离子刻蚀RIE、深反应离子刻蚀DRIE、电感耦合等离子体ICP）化学活性较强的性质进行薄膜刻蚀的技术。
