自2022年11月首台设备迁入以来，九峰山实验室工艺平台一直在紧锣密鼓地进行设备的迁入和调试。2023年3月，8寸线完成通线，并迎来首批晶圆下线。
与常规产品相比，高精密光栅工艺难点在于其玻璃衬底的特殊性：透明衬底导致机台无法寻边对中，对热制程的敏感导致翘曲现象极易发生，机械性能差、易破易碎，背面洁净度要求极高等。实验室工艺中心团队在充分调研及大量验证测试的基础上，结合现有工艺设备能力，在两周时间内连续攻克了光刻曝光面内不均匀、刻蚀不充分形貌坡度角大、薄膜膜层折射率低、衬底减薄边缘碎片等十余项关键工艺问题，并大胆引入临时键合工艺的技术方案，系统性解决了玻璃衬底在制程中的各项工艺问题，实现提前下线，也为此类产品良率的大幅提升开辟了新道路。
本次8寸中试线的顺利通线和首批晶圆下线，标志着九峰山实验室工艺中心已经初步具备8寸0.15μm以上技术节点设备及工艺流片能力，填补了国内高线密度、超高折射率、非周期性高精密光栅生产工艺空白。
进入全面运营期，实验室加速启航
2021年8月开工，2022年11月首台设备正式搬入，2023年3月8寸中试线正式通线运行，在不到两年时间内，九峰山实验室高速完成建设期任务，进入全面运营期。
