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原子力显微技术 Atom Force Microscope(AFM)
原子力显微镜(Atom Force Microscope,简称AFM)是一种原子级高分辨率的扫描探针显微镜。其原理是通过检测待测样品表面和一个微型力敏感元件之间的极微弱的原子间相互作用力来研究物质的表面结构及性质。在半导体和材料分析领域,原子力显微镜可用于研究样品表面的形貌特征(如表面缺陷、粗糙度等)和电性特征(如表面阻抗、电势分布、掺杂浓度等)。
用途
材料表面粗糙度
材料表面缺陷分析(如结构缺陷、晶格错位、缺陷密度和传播等)
材料表面阻抗、电势分布、介电常数、掺杂浓度等
技术特点
  • 形貌/粗糙度噪声:<0.03 nm

  • 样品尺寸可达200mm,厚度15mm

  • 高分辨率样品表面形貌分析

  • 扫描微波阻抗/扫描扩散电阻/扫描电容显微成像

  • CAFM分辨率:2 pA,可加偏压mV到10 V

  • 隧道电流显微分析,分辨率2 pA