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  • 高纯金属MBE源镓(Ga)&铝(Al)

    企业名称:武汉拓材科技有限公司

    产品型号:Ga(7N5)& Al(6N5)

    验证周期:2023年10月至2024年2月

    产品功能:可以实现各类氮化物结构的分子束外延薄膜制备,用于制备的AlN/GaN HEMT 器件

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